GB/T 19922-2005硅片局部平整度非接觸式標(biāo)準(zhǔn)測試方法

【 標(biāo)準(zhǔn)編號 】 GB/T 19922-2005
【 標(biāo)準(zhǔn)名稱 】 硅片局部平整度非接觸式標(biāo)準(zhǔn)測試方法  
【 英文名稱 】 Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning
【 發(fā)布單位 】 中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局; 中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
【 發(fā)布日期 】 2005-9-19
【 實施日期 】 2006-4-1
【 開本頁數(shù) 】 9P
【 引用標(biāo)準(zhǔn) 】 GB/T 14264; ASTMF 1530-94
【 起草單位 】 洛陽單晶硅有限責(zé)任公司; 中國有色金屬工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)質(zhì)量研究所
【 起 草 人 】 史舸; 蔣建國; 陳興邦; 賀東江; 王文; 鄧德翼