原帖由 duomeiti 于 2008-6-12 21:53 發(fā)表
測量時﹐把平晶放在被測表面上﹐且與被測表面形成一個很小的楔角 ﹐以單色光源照射時會產(chǎn)生干涉條紋。干涉條紋的位置與光線的入射角有關(guān)。如入射光線垂直于被測表面﹐且平晶與被測表面間的間隙很小﹐則由平晶測量面P 反射的光 ...
原帖由 nana 于 2008-6-13 09:31 發(fā)表
最簡單的方法,在測量時讀出明暗條紋的條紋數(shù)(明或暗,一般讀出暗條紋的個數(shù)即可)乘以0.3,結(jié)果即是平面度。(單位為um)
最簡單的方法,在測量時讀出明暗條紋的條紋數(shù)(明或暗,一般讀出暗條紋的個數(shù)即可)乘以0.3,結(jié)果即是平面度。(單位為um)
nana 發(fā)表于 2008-6-13 09:31
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